Ellipsometer
ＨＲ４００Ｋ製品仕様書

Outline of HR400K

HR400Kの特徴

1. ハイスループット: 300㎜ウエハーの小領域40万点を３０秒で測定します（面内分解能3×9 micro-m）１ポイントあたりの計算時間は１変数計算で0.2msecです。 また大量の屈折率のデータを統計処理することによって研磨などに伴う膜質の欠陥を検出できます。
2. 高精度: 光束が広いので回折による誤差が生じません.
3. 多層膜の測定: 新しく開発したアルゴリズム(MFE algorithm)によってＯＮＯ、ＳＯＩをはじめ各種多層膜が精度よく測定できます
4. パターンつきサンプル: 、位置あわせの必要がないので、デバイスウェー ハーやトレンチキャパシターなどパターンを持ったサンプルを有効に測定できます。