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Ellipsometer ●ＱＲ１２０Ｋ製品仕様書 ●300mmウェハー対応屈折率膜厚測定装置製品仕様 
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Outline of QR120Kエリプソメータは薄膜の膜厚と屈折率を非接触高精度に測定する装置として、半導体や液晶などの 計測に広く使用されています。当社の面 測定型並列エリプソメータＢＥＰＥ（Beam Expanding Parallel Ellipsometer）はサンプル全面の 数１０万点を１度に測定して、膜厚と屈折率（密度と誘電率によるパラメーター）を画像として表示 できます。 Features of QR120K1. ハイスループット: 200㎜ウエハー全面１２万点を３０秒で測定します（面内分解能0.27×0.79㎜で）。300㎜ウエハー ーは２回の測定となります。１ポイントあたりの計算時間は１変数計算で0.2msecです。2. 高精度: ステージ移動による機械的誤差や、光束が広いので回折による誤差が生じません。また、高精細に測 定できるので薄膜の初期形成段階でも精度がよいなどの理由により、従来はできなかったシリコン酸 化膜膜厚50A程度でも、膜厚と屈折率の同時測定ができます。 3. 多層膜の測定: 新しく開発したアルゴリズムによってＯＮＯ、ＳＯＩをはじめ各種多層膜が精度よく測定できます。 4. パターンつきサンプル: 、位置あわせの必要がないので、デバイスウェー ハーやトレンチキャパシターなどパターンを持ったサンプルを有効に測定できます。 |