Si基板上にシリコン酸化膜を形成したTEGウエハーです。６ｍｍ角から０．５ｍｍ角の大きさと膜厚の異なる正方形が配置されています。
　このように、形状や膜厚がことなるパターンが形成されているサンプルを同時に一括で測定できます。
測定結果は１ポイントごとのデータとして出力され、さまざまな画像処理やデータ解析を行うことができます。

　測定精度に関する注釈

　１．測定パターンの細かさと測定領域とは相反的な関係です。本データは２００ｍｍウエハーを一括で測定できるQR120Kによるもので、0.3ｍｍ以下の分解能では測定できません。