階段状に形成したシリコン酸化膜

Ｓｉ基板上にストライプ状にエッチングされた膜厚900Åと２５０ÅのSiO2

　一様に形成した酸化膜を250－1500Åまで階段状にエッチングしたサンプルです。
　このようにサンプル内で膜厚がさまざまに形成されているサンプルも２次元的に一括で測定できます。
　付属ソフトウェアによって拡大縮小や断面プロフィールも得られます。