HR4000K測定データ 本文へジャンプ
Si基板上にストライプ状にエッチングされた膜厚900Åと250ÅのSiO2
 一様に形成した酸化膜を250−1500Åまで階段状にエッチングしたサンプルです。
 このようにサンプル内で膜厚がさまざまに形成されているサンプルも2次元的に一括で測定できます。
 付属ソフトウェアによって拡大縮小や断面プロフィールも得られます。