QR400Kの特徴

　 株式会社ユーレカは、半導体検査分野において、膜厚、膜質検査、マクロ検査の機能を備えた、表面検査装置QR400Kを開発し、販売を開始いたします。
　QR400Kは、２００mmウエハ対応の表面検査装置で、２次元エリプソメータとマクロ欠陥検査の機能を備えており、ウエハー全面を一括して測定することができます。このQR400Kによって、半導体プロセスのあらゆるステージで膜の特性を統一的な検査基準により高い精度で追跡し管理することができます。

QR400Kはエリプソメータとして最高度の性能を実現しています。薄膜の屈折率と膜厚を２次元的に測定し画像として表示します。多層膜での測定精度の向上と計算時間の短縮のために６５０ｎｍと７８５ｎｍの２波長で測定することができます。最適な精度を可能にする入射角に１/１０００００度の分解能で自動的に設定できます。また測定基準座標の自動調整の機能を備えています。２００ｍｍウェハ全面４０万ポイントを１００μｍの面内分解能で３０秒で測定できます。（オプションのズーム機構によって、１０μｍの面内分解能まで可能。）

　本装置は良品の測定による学習機能と画像処理によって高スループットでサンプルの幾何学的特長を検出します。 さらに、この装置は反りや膜ムラ、ゴミなどによって生じる回折光を測定することによって２０μm以上(標準）の欠陥を検出することができます

このエリプソメトリイと欠陥検出の２つの手法を１つのサンプルに対し同時に適用することによってこれまで分離することができなかった測定要因を明確化でき、ゴミ、傷、反りなどの幾何学的特徴と膜厚、膜質変動などの物理的特徴とをそれぞれ個別に検出することが可能になります。

標準価格　４８００万円〜（仕様により異なります）

主な仕様

ウェハサイズ	200mm
スループット	120枚/時（エリプソ）　100枚/時（欠陥検査）
主な検査対象	透明膜の膜厚・膜質、サンプルパターンの幾何学的形状
寸法（W×D×H）	1340×860×1570 ｍｍ
重量	300ｋｇ